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first_img SK 海力士部分 HBM4 后道设备订单或延至明年

ChainCatcher 消息,据 DealSite 报道,存储芯片厂商 SK 海力士在扩大第六代高带宽内存 HBM4 量产的同时,部分后道设备业内人士认为扩产速度慢于预期,今年计划追加的部分设备订单可能推迟至明年。设备业人士称,原定今年下半年交付的部分设备出现延后迹象,后续订单计划也尚未明确。有匿名人士表示,部分原计划今年投入的设备或改至明年,已交付设备是否满负荷运转也尚无数据确认。明年 HBM4 相关投资计划尚未具体传达给部分合作方,今年订单已大体完成,但未见明确的增减投资信号。报道称,设备投资日程与产品质量问题之间的直接关联尚未得到确认。大信证券研究员柳亨根认为,主要客户 HBM4 质量问题导致业绩低于预期的担忧过度,后道环节或曾出现部分问题,但难以视为无法解决的风险,也尚未到讨论不良赔偿的阶段。另有业内说法称,在通用内存价格上涨背景下,部分 HBM 投资或转向通用内存。SK 海力士计划优先向龙仁集群 Y1 晶圆厂首个洁净室导入 DRAM 生产设备,业界预计初期产线采用第六代 10 纳米级 1c 工艺,新增产能将优先分配给通用 DRAM。也有观点认为,仅凭部分后道设备日程变化,尚不足以判断 HBM4 量产受阻,SK 海力士已向主要客户供应 HBM4 16 层样品。

first_img 中央日报:长鑫存储前 CEO 被指施压索取三星工艺

ChainCatcher 消息,韩国《中央日报》报道,其取得的三星电子部长出身、前长鑫存储(CXMT)设备投资负责人全某的陈述书显示,CXMT 前 CEO 王宁国曾于 2016 年 10 月至 12 月召集全某等韩国团队,要求带回三星电子工艺配方计划(PRP)及设备信息,并称若不带回将向韩国政府举报,还警告对方有核实人脉、不要说谎。全某称当时感到害怕。报道称,CXMT 管理层当时以“黄山”作为三星电子的代号。全某在三星电子工作 28 年后加入 CXMT,因涉嫌未经授权泄露并使用三星投入 1.6 万亿韩元、当时全球率先开发的 18 纳米 DRAM 工艺被起诉,今年 4 月一审被判 7 年有期徒刑,目前处于二审。PRP 包含 DRAM 制造约 600 个步骤的顺序、设备、条件值及设备公司与型号。三星工艺设计工程师出身的朴某于 2016 年 9 月将相关内容手抄在 12 页笔记中带出,目前处于国际刑警组织红色通报状态。全某在庭审中陈述,与中国方面沟通时出现过做不出 18 纳米就不向 CXMT 提供投资的说法,并称后来得知对方从一开始就想要该技术,CXMT 起初并无自行开发打算。上述施压发生在为申请投资准备会议之前。CXMT 于 2016 年由合肥市政府下属合肥产业投资出资 144 亿人民币设立,约 10 年未盈利,去年首次年度盈利,净利润 71 亿人民币。

first_img 三星电子加快平泽 P5 首条量产线建设,设备导入目标提前至明年二季度

ChainCatcher 消息,据 ZDNet Korea 9 月 28 日报道,三星电子正加快平泽第五园区(P5)首条量产线(Ph1)建设,并与主要设备厂商讨论将 Ph1 设备搬入目标从原定明年三季度提前至明年二季度。P5 是以 2028 年投产为目标的下一代半导体生产基地,今年三季度已开始建设 Ph1 洁净室。三星电子此前已将原定明年初完成的 P5 Ph1 洁净室建设提前约 6 个月,设备导入因此预计在明年三季度左右。业内人士称,设备搬入开始时间拟从明年 7 月至 8 月提前至明年 5 月至 6 月前后;另有人士表示,三星甚至提出明年一季度先交付设备、由其他地点暂存,显示其提前投资意愿较强。P5 第二阶段(Ph2)投资讨论也在推进。目前 Ph1 更可能建设为 DRAM 与 HBM 产线,Ph2 则更可能建设为包括第十代(V10)在内的先进 NAND 产线。设备业人士称,正式采购订单尚未下达,但三星已与合作方讨论将 Ph2 建成 NAND 产线,并因设备交付周期较长,要求提前备妥相关零部件。报道称,全球大型科技公司增加 AI 基础设施用高性能 DRAM 与 NAND 订单,而三星等存储企业产能有限。三星在 7 月二季度业绩电话会上曾表示,今年未能满足的需求将延至明年,明年供应短缺将比今年更严重,并预计短缺将持续至 2028 年。
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